氧化鎂在線高剪切研磨分散機,實驗室*小型設備：

研磨分散機由1-3個工作腔組成，在馬達的高速驅動下，物料在轉子與定子之間的狹窄間隙中高速運動，形成紊流，物料受到更強液力剪切、離心擠壓、高速切割、撞擊和研磨等綜合作用，從而達到分散、乳化、破碎的效果。被加工物料本身和物理性質和工作腔的數量以及控制物料在工作腔中停留的時間決定了粒徑分布范圍及均化、細化的效果和產量的大小。

GMSD2000系列是專門為膠體溶液生產所設計，特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產。GMSD2000的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨。定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

SID膠體磨與國內膠體磨的性能比較：

一、轉速和剪切速率：

SID膠體磨，可選擇德國機械密封，轉速可以達到15000轉    

F=23/0.7X1000=32857 S-1  

F=40/0.7/X1000=57142 S-1                      

國內膠體磨，可選擇機械密封一般3000轉，大約在14293-215440 S-1

通過轉速比較可知，這是粉碎研磨的重要因素，相當于前者是后者的2-3倍

 二、膠體磨頭和間距：

SID膠體磨，可以選擇六種不同的模塊頭，實現多種功能，如三級乳化模塊，速模塊，膠體模塊，批次粉液液混合模塊，連續(xù)粉液混合模塊。

間距可調，可實現1-10微米小粒徑材料加工

國內膠體磨，只有一種模塊頭，粒徑細度有限，100微米以下較困難，重復性差

三、機械密封：

SID膠體磨，雙機械密封，易于清洗，將泄漏降至*低，可24小時不停運轉

國內膠體磨，單機械密封或軸封，泄漏故障率高，產品泄漏進入馬達，造成馬達燒毀

四、清洗：

SID膠體磨，立式，皮帶驅動，易于維護，可有效保護馬達及齒輪箱，防止損壞,符合流體流動原理，具有CIP/SIP在線清洗，在線殺菌功能，無需拆卸，機器設計立式結構符合流體原理，清洗更簡便

國內膠體磨，臥式或立式（馬達一體式），軸承部分受力較大，易于損壞，維護保養(yǎng)復雜，

通常情況，需要拆卸機器進行清洗

膠體磨內部結構及分析：

粉碎室設有三道磨碎區(qū)，為粗磨碎區(qū)，二級為細磨碎區(qū)，三層為超微磨碎區(qū)，通過調整定、轉子的間隙，能有效地達到所需的超微粉碎效果（也可循環(huán)加工）。

 研磨分散機du有的優(yōu)點

◆ 處理量大，適合工業(yè)化在線連續(xù)生產；
◆ 粒徑分布范圍窄，勻度高；
◆ 省時、高效、節(jié)約能源；
◆ 精密鑄造的整體式機架和經精密動平衡測試的每道轉子，確保整機運行噪音低，運轉平穩(wěn)；
◆ 消除批次間生產的品質差異；
◆ 物料100%通過粉碎分散剪切；
◆ 具有短距離、低揚程輸送功能；
◆ 使用簡單，維修方便；
◆ 可實現自動化控制；
◆ 集裝式機械密封，保證物料無泄漏；
◆ 單機處理量從1～120m3/h。

氧化鎂在線高剪切研磨分散機，醫(yī)藥用氧化鎂研磨分散機，氧化鎂濕法研磨